01013nam a2200229 k 4500001001300000005001500013008004100028041001300069049003200082052001300114056001100127082001200138245020300150260003600353300003100389502008300420650004200503653014300545700003300688900001500721963004700736KDM20031783820200908103430030424s2003    ulka       AQ 000   kor  0 akorbeng0 lEM2793189lEM2793190c2fDP01a576b3-1  a576240 a66622100a게이트 유전막 응용을 위한 ZrO₂와 HfO₂박막의 미세구조 및 계면반응=xMicrostructures and interfacial reactions of ZrO₂and HfO₂thin films as gate dielectrics/d남석우  a서울:b연세대학교,c2003  axii, 208p.:b삽도;c26cm1 a학위논문(박사) --b연세대학교 대학원:c세라믹공학과,d2003 8a세라믹스[ceramics]0KSH1998005281  aZRO₂aHFO₂a반응성 스퍼터링a금속산화법aMOSOM방법a열역학a속도론a계면반응a실리사이드a계면산화막1 a남석우0KAC2020G56894aut10aNam, Seoku  a세라믹공학과a세라믹스[ceramics]