01511na  a2200349   4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002900096245025700125300002600382545005000408545005000458545005000508545008300558545008300641653011700724700001900841700001400860700003600874700001400910700001400924773013000938856002101068900001501089900001401104900001301118900001401131900001601145KSI00081475120100709162958ta100525s1998    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a576.05b한566ㅇc35(9)00a고온 열처리에 따른 Y₂O₃ 박막과 (100) 실리콘 기판간의 계면 반응에 관한 연구 =x(The)study on interfacial reactions between Y₂O₃ films and (100) Si substrates /d강성관,e김은하,e고대홍,e조만호,e황정남  ap. 1222-1226 ;c26 cm  a강성관, 연세대학교 세라믹공학과  a김은하, 연세대학교 세라믹공학과  a고대홍, 연세대학교 세라믹공학과  a조만호, 초미세 표면 과학 연구 센터, 연세대학교 물리학과  a황정남, 초미세 표면 과학 연구 센터, 연세대학교 물리학과  a고온 열처리a실리콘 기판a계면 반응aY2O3aYttrium silicateaSiO2aInterfacial reactionaDiffusion1 a강성관4aut1 a김은하1 a고대홍,d1961-0KAC2016367221 a조만호1 a황정남0 t窯業學會誌.d한국요업학회.g35卷 11號(1998년 11월), p. 1222-1226q35:11<1222w(011001)KSE199508697,x1225-137240u76109353aKd00010aKang, S.K.10aKim, E.H.10aKo, D.H.10aCho, M.H.10aWhang, C.N.