01183nam a2200241 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002800096245021500124300002400339545007500363545007700438653013500515700005300650700004800703773013000751856002100881900002000902900001900922KSI00080326720100614195515ta100428s1997    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a560.5b대483ㄱc46(1)00a미세 도금틀 형성을 위한 폴리이미드의 이방성 O₂RIE 식각에 관한 연구 =x(A)study on the anisotropic O₂ RIE etching of polyimide for micro electroplating mold /d白昌煜,e金容權  ap. 298-300 ;c30 cm  a백창욱, 정회원, 서울대 대학원 전기공학부 박사과정  a김용권, 정회원, 서울대 공대 전기공학부 부교수, 공박  a반응성 이온 식각a폴리이미드aReactive ion etchingaRIEaLIGA-like processaPolyimideaAnisotropic etchingaMicrograss1 a백창욱,g白昌煜,d1970-0KAC2017224144aut1 a김용권,g金容權,d1960-0KAC2014147530 t전기학회논문지.d대한전기학회.g46卷 2號(1997년 2월), p. 298-300q46:2<298w(011001)KSE199508722,x0254-417240u76614517aKd00010aBaek, Changwook10aKim, Yongkweon