01135nam a2200229 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002900096245028700125300002400412545006700436545006700503653010200570700001900672700004800691773012800739900001900867900001900886KSI00076213920091022100604ta090612s1996    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a530.405b한596ㅎc6(4)00a기계적 damage 활성화 효과에 대한 수소화 및 비수소화 비정질 규소 박막의 고상 결정화 거동 =xBehavior of Solid phase crystallizations in mechanical damage induced hydrogenated and non-hydrogenated amorphous silicon thin films /d김형택,e김영관  ap. 436-445 ;c30 cm  a김형택, 시립 인천대학교 공과대학 재료공학과  a김영관, 시립 인천대학교 공과대학 재료공학과  a기계적 damage 활성화 효과a비정질 규소 박막aMechanical damageaSilicon thin films1 a김형택4aut1 a김영관,g金榮寬,d1954-0KAC2018M24010 t한국재료학회지.d韓國材料學會.g6권 4호(1996년 4월), p. 436-445q6:4<436w(011001)KSE199509224,x1225-056210aKim, Hyungtaek10aKim, Youngkwan