01420nam a2200337 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002900096245024900125300002400374545004000398545005300438545004700491545005300538545005300591653010800644700001900752700001400771700004800785700001400833700003600847773012800883900001501011900001401026900001401040900001401054900001401068KSI00076136120091005100559ta090609s1995    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a530.405b한596ㅎc5(5)00a플라즈마 화학기상 증착법에 의한 B이 첨가된 ZnO 박막의 증착에 관한 연구 =xDeposition of B-doped ZnO thin films by plasma enhanced chemical vapor deposition /d최준영,e조해석,e김영진,e이용의,e김형준  ap. 568-574 ;c30 cm  a최준영, 삼성코닝주식회사  a조해석, 서울대학교 무기재료공학과  a김영진, 경기대학교 재료공학과  a이용의, 서울대학교 무기재료공학과  a김형준, 서울대학교 무기재료공학과  a플라즈마 화학기상 증착법aZnO 박막aB-doped ZnOaPlasma enhanced chemical vapor deposition1 a최준영4aut1 a조해석1 a김영진,g金英進,d1958-0KAC2018484821 a이용의1 a김형준,d1968-0KAC2017369810 t한국재료학회지.d韓國材料學會.g5卷 5號(1995년 8월), p. 568-574q5:5<568w(011001)KSE199509224,x1225-056210aChoi, J.Y.10aCho, H.S.10aKim, Y.J.10aLee, Y.E.10aKim, H.J.