01459nam a2200337 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002900096245024700125300002400372545006600396545006600462545006600528545007000594545006600664653008000730700001900810700001400829700001400843700002800857700003600885773012800921900001401049900001501063900001401078900001501092900001401107KSI00076134720091005100559ta090609s1995    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a530.405b한596ㅎc5(5)00aRf 마그네트론 반응성 스퍼터링법에 의해 증착된 RuO₂ 박막의 특성분석 =xCharacterization of RuO₂ thin films deposited by Rf magnetron reactive sputtering /d조호진,e홍석경,e조해석,e양홍근,e김형준  ap. 544-551 ;c30 cm  a조호진, 서울대학교 공과대학 무기재료공학과  a홍석경, 서울대학교 공과대학 무기재료공학과  a조해석, 서울대학교 공과대학 무기재료공학과  a양홍근, 삼성전자 반도체 특수사업부 기술개발팀  a김형준, 서울대학교 공과대학 무기재료공학과  aRf 마그네트론a스퍼터링법aRf magnetron reactive sputteringaRuO21 a조호진4aut1 a홍석경1 a조해석1 a양홍근0KAC2020730091 a김형준,d1968-0KAC2017369810 t한국재료학회지.d韓國材料學會.g5卷 5號(1995년 8월), p. 544-551q5:5<544w(011001)KSE199509224,x1225-056210aCho, H.J.10aHong, S.K.10aCho, H.S.10aYang, H.G.10aKim, H.J.