01422nam a2200337 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002300096245025100119300002400370545004700394545005900441545005900500545005900559653008200618700001900700700001400719700004800733700004800781700003600829773012700865856002000992900001401012900001501026900001501041900001401056900001401070KSI00075387620090826142344ta090515s1997    gnk        VG 000   kor    a0110010 akorbeng01a530.05b창287c1100aTiN 박막의 경도 및 밀착력에 미치는 pulsed DC PACVD 공정인자의 영향 =x(The)effect of process parameters of pulsed DC PACVD on hardness and adhesion of TiN thin films /d김진관,e윤재홍,e변응선,e이구현,e이상로  ap. 519-531 ;c26 cm  a윤재홍, 창원대학교 재료공학과  a변응선, 한국기계연구원 재료공정연구부  a이구현, 한국기계연구원 재료공정연구부  a이상로, 한국기계연구원 재료공정연구부  aTiN 박막aPulsed DC PACVDa공정인자aProcess parametersaTiN thin films1 a김진관4aut1 a윤재홍1 a변응선,g邊應善,d1963-0KAC2016372151 a이구현,g李九鉉,d1952-0KAC2018442081 a이상로,d1952-0KAC2018455690 t産技硏論文集.d昌原大學校 産業技術硏究所.g11집(1997년 6월), p. 519-531q11<519w(011001)KSE19950549040u2029435aKd00210aKim, J.K.10aYoon, J.H.10aByon, E.S.10aLee, K.H.10aLee, S.R.