01039nam a2200229 c 4500001001300000005001500013007000300028008004100031040001100072041001300083052002800096245023700124300002000361545005000381545005000431653012300481700004100604700001400645773011600659900001700775900001700792KSI00069573120081110130026ta080804s1993    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a425.05b한446ㅎc4(1)00aDeep UV 마이크로 리소그라피를 위한 새로운 4-반사경 광학계에 관한 수차해석 =xFurther analysis of optical aberration of four-mirror optical system for deep UV submicron lithography /d김종태,e이상수  ap. 1-8 ;c29 cm  a김종태, 한국과학기술원 물리학과  a이상수, 한국과학기술원 물리학과  aDeep UV 마이크로 리소그라피aDeep UV submicron lithographya4-반사경 광학계aFour-mirror optical system1 a김종태,d1962-0KAC2018467504aut1 a이상수0 t한국광학회지.d한국광학회.g4권 1호(1993년 3월), p. 1-8q4:1<1w(011001)KSE199509129,x1225-628510aKim, Jongtae10aLee, Sangsoo