01216nam a2200241 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003700093245019400130300002100324545009000345545005600435545006100491653017600552700005300728700001400781700001900795773012700814900001600941900001700957KSI00058091720060919105302060914s2004    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a554.9405b한622ㅎc13(1)-13(4)00a이차이온 질량분석기를 이용한 탄탈 박막내의 불순물 분석=xImpurity analysis of Ta films using secondary ion mass spectrometry/d임재원,e배준우,eMinoru Isshiki  ap. 22-28;c26 cm  a임재원, 동북대학 다원물질과학연구소bflashlim@mail.tagen.tohoku.ac.jp  a배준우, 동북대학 다원물질과학연구소  aMinoru Isshiki, 동북대학 다원물질과학연구소  a이온빔 증착a탄탈a불순물a기판 바이어스a이차이온 질량분석aIon beam depositionaTantalumaImpurityaBias voltageaSecondary ion mass spectrometry1 a임재원,g林載元,d1972-0KAC2016240254aut1 a배준우1 aMinoru Isshiki0 t한국진공학회지.d韓國眞空學會.g13권 1호(2004년 3월), p. 22-28q13:1<22w(011001)KSE199508370,x1225-882210aLim, Jaewon10aBae, Joonwoo