01395nam a2200289 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003500093245019300128300002300321545007600344545005700420545005000477545005000527653012600577700004100703700004800744700004800792700001400840773017500854900001901029900002101048900001901069900001701088KSI00050765420060616165411060609s2003    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a469.05b한428ㅎc13(1)-13(6)00aXPS를 이용한 Sb-doped SnO₂투명전도막의 특성 분석=xCharacterization of transparent Sb-dopde SnO₂conducting by XPS analysis/d임태영,e김창열,e심광보,e오근호  ap. 254-259;c29 cm  a임태영, 요업기술원 유리 디스플레이팀btylim@kicet.re.kr  a김창열, 요업기술원 유리 디스플레이팀  a심광보, 한양대학교 세라믹공학과  a오근호, 한양대학교 세라믹공학과  aTransparent conducting thin filmaSb-doped SnOaSiO₂barrieraN₂annealingaXPS analysisa투명전도막a광투과율1 a임태영,d1958-0KAC2017228124aut1 a김창열,g金昌烈,d1966-0KAC2017443551 a심광보,g沈光輔,d1960-0KAC2017025131 a오근호0 tJournal of the Korean crystal growth and crystal technology.d韓國結晶成長學會.g13권 5호(2003년 10월), p. 254-259q13:5<254w(011001)KSE199508766,x1225-142910aLim, Tae-Young10aKim, Chang-Yeoul10aShim, Kwang-Bo10aAuh, Keun-Ho