01322nam a2200277 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003100093245031900124300002300443545004300466545004300509545004300552545004200595653011400637700004100751700001400792700001400806700001400820773015900834900001600993900001701009900001801026KSI00056491620060928100518060824s2003    bnk           000   kor    a0110010 akorbeng01a559.45605b한644ㅎc7(2)00aFBAR 필터 응용을 위한 A1 하부전극 상에서 ZnO 박막 증착 및 온도가 ZnO 결정의 성장에 미치는 영향=xZnO film deposition on aluminum bottom electrode for FBAR filter applications and effects of deposition temperature on ZnO crystal growth/d윤기완,e임문혁,e채동규,eMai Linh  ap. 255-262;c26 cm  a윤기완, 한국정보통신대학교  a임문혁, 한국정보통신대학교  a채동규, 한국정보통신대학교  aMai Linh, 한국정보통신대학교  aFBARaZnO filmaTemperature regionaCritical temperatureaFWHMaC-axis growthaFBAR 필터aZnO 박막 증착1 a윤기완,d1959-0KAC2017027534aut1 a임문혁1 a채동규1 aLinh, Mai0 t한국해양정보통신학회논문지.d한국해양정보통신학회.gVol.7 No.2(2003년 4월), p. 255-262q7:2<255w(011001)KSE199900202,x1226-698110aYoon, Giwan10aYim, Munhyuk10aChai, Dongkyu