01273na  a2200229   4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003300093245030500126300002500431545006000456545006000516653021700576700001900793700003600812773013900848856002000987900001901007900001701026KSI00035676120040924222002040924s1986    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a559.705b대445ㄷc24(7/12)00a반응성 이온 증착법에 의한 타이타늄 질화물 피막의 구조 및 성질에 미치는 기판온도와 질소압력의 영향=xEffects of substrate temperature and N₂pressure on the properties and structure of titanium nitride deposits by reactive ion plating/d韓鳳熙,e高大弘  ap. 1152-1158;c30 cm  a한봉희, 서울대학교 공과대학 금속공학과  a고대홍, 서울대학교 공과대학 금속공학과  a반응성a이온 증착법a타이타늄a질화물 피막a구조a성질a기판온도a질소압력aSubstrate temperatureaN₂pressureaPropertiesaStructureaTitanium nitride depositsaReactive ion plating1 a한봉희4aut1 a고대홍,d1961-0KAC2016367220 t대한금속학회지.d大韓金屬學會.g제24권 10호(1986년 10월), p. 1152-1158q24:10<1152w(011001)KSE199508414,x0253-384740u3232160aKd00010aHahn, Bong Hee10aKo, Dae-Hong