01092na  a2200265   4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002900093245015400122300002300276545005000299545005000349545005000399653007200449700001900521700001400540700003600554773016400590856002000754900001600774900001900790900001700809KSI00022821120040713050837040615s1999    ulk           000   kor    a0110010 akorbeng01a530.05b연339ㄴc31(2)00a저저항 SALICIDE gate 공정 개발 연구=x(A)study on the development of low resistant SALICIDE gate process/d김은하,e최효직,e고대홍  ap. 103-108;c26 cm  a김은하, 연세대학교 세라믹공학과  a최효직, 연세대학교 세라믹공학과  a고대홍, 연세대학교 세라믹공학과  a저저항 SALICIDE gateaLow resistant SALICIDE gateaSALICIDE gate1 a김은하4aut1 a최효직1 a고대홍,d1961-0KAC2016367220 t논문집-연세대학교 산업기술연구소.d연세대학교 산업기술연구소.g31집 2권(1999년 12월), p. 103-108q31:2<103w(011001)KSE19950515140u2001958aKd00210aKim, Eun-Ha10aChoi, Hyo-Jick10aKo, Dae-Hong