01870nam a2200409 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002900093245026000122300002100382545006200403545006200465545006200527545006200589545006200651545006200713545006200775653016000837700004100997700004801038700001401086700003601100700004801136700001401184700001401198773011901212856002001331900001601351900001601367900001501383900001601398900001501414900001601429900001501445KSI00003422920040206103622031029s1998    tgk           000   kor    a0110010 akorbeng01a569.805b한536ㅅc7(1)00a무수 불화수소와 메탄올의 기상식각에 의한 실리콘 표면 미세 가공=xSilicon surface micro-machining by anhydrous HF gas-phase etching with methanol/d장원익,e최창억,e이창승,e홍윤식,e이종현,e백종태,e김보우  ap. 73-82;c26 cm  a장원익, 한국전자통신연구원 반도체연구단  a최창억, 한국전자통신연구원 반도체연구단  a이창승, 한국전자통신연구원 반도체연구단  a홍윤식, 한국전자통신연구원 반도체연구단  a이종현, 한국전자통신연구원 반도체연구단  a백종태, 한국전자통신연구원 반도체연구단  a김보우, 한국전자통신연구원 반도체연구단  a무수a불화수소a메탄올a기상식각a실리콘a표면미세가공aGas-phaseaSiliconaSurface micro-machiningaAnhydrousaHFaEtchingaMethanol1 a장원익,d1961-0KAC2017256684aut1 a최창억,g崔昌億,d1954-0KAC2017112011 a이창승1 a홍윤식,d1960-0KAC2018H59241 a이종현,g李鐘泫,d1958-0KAC2020K41271 a백종태1 a김보우0 t센서학회지.d한국센서학회.g7권 1호(1998년 1월), p. 73-82q7:1<73w(011001)KSE199508532,x1225-547540u3316325aKd00010aJang, W. I.10aChoi, C. A.10aLee, C. S.10aHong, Y. S.10aLee, J. H.10aBaek, J. T.10aKim, B. W.