01099nam a2200217 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052002400093245025000117300003200367545009800399545006200497653008200559700005300641700002000694773013000714900001700844900002000861KSI00016326620040127194258031216s2003    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a554.9405b한622ㅎ00a고주파 스퍼터타입 이온소스를 이용한 비질량분리형 이온빔증착법에 관한 특성연구=xFundamental characteristics of non-mass separated ion beam deposition with RE sputter-type ion source/d임재원,eMinoru Isshiki  ap. 136-143:b삽도;c26 cm  a임재원, 동북대학 다원물질과학연구소bE-mail: flashlim@mail.tagen.tohoku.ac.jp  aMinoru, Isshiki, 동북대학 다원물질과학연구소  a이온선 증착a구리, 비저항aIon beam depositionaCopperaResistivity1 a임재원,g林載元,d1972-0KAC2016240254aut1 aMinoru, Isshiki0 t韓國眞空學會誌.d韓國眞空學會.g12권 2호(2003년 6월), p. 136-143q12:2<136w(011001)KSE199508370,x1225-882210aLim, Jae-Won10aMinoru, Isshiki