01496nam a2200325 c 4500001001300000005001500013008004100028040001100069041001300080052003000093245026200123300003200385545005100417545005100468545004300519545005100562545005100613653017800664700004100842700001400883700001400897700001400911700004800925773012900973900001301102900001401115900001201129900001401141900001501155KSI00016092620040219194237031216s1998    ulka          000   kor    a0110010 akorbeng01a554.9405b한622ㅎc7(1)00a자장강화된 유도결합형 플라즈마를 이용한 산화막 식각에 대한 연구=x(A)study on the oxide etching using multi-dipole type magnetically enhanced inductively coupled plasmas/d안경준,e김현수,e우형철,e유지범,e염근영  ap. 403-409:b삽도;c26 cm  a안경준, 성균관 대학교 재료공학과  a김현수, 성균관 대학교 재료공학과  a우형철, 코리아 바큠테크(주)  a유지범, 성균관 대학교 재료공학과  a염근영, 성균관 대학교 재료공학과  a자장강화a유도결합형a플라즈마a산화막a식각aMulti-dipoleaOxideaEtchingaUsingaMultidipoleaTypeaMagneticallyaEnhancedaInductivelyaCoupledaPlasmas1 a안경준,d1967-0KAC2018482894aut1 a김현수1 a우형철1 a유지범1 a염근영,g廉根永,d1958-0KAC2017000680 t韓國眞空學會誌.d韓國眞空學會.g7권 4호(1998년 11월), p. 403-409q7:4<403w(011001)KSE199508370,x1225-882210aAn, K.J.10aKim, H.S.10aWoo, R.10aYoo, J.B.10aYeom, G.Y.