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전자책 텍스트 일반도서 kor

전도성 고분자 분야. 1-2/ 편저: 한국특허정보원

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표제/저자사항
전도성 고분자 분야. 1-2/ 편저: 한국특허정보원
한국특허정보원
발행사항
서울 : 산업교육연구소: Jinhan M&B, 2006
형태사항
2책: 삽화, 도표; 30 cm
총서사항
(기술 및 시장, 특허분석보고서= Technology and market trends & patent analysis report)
주기사항
서지: 참고문헌 수록
이용가능한 다른 형태자료: KMO200645684
표준번호/부호
ISBN 8984322873(1) ISBN 8984322881(2)
분류기호
한국십진분류법-> 502.9 한국십진분류법-> 578 듀이십진분류법-> 608 듀이십진분류법-> 668
주제명
특허[特許]   고분자[高分子]   고분자 공학[高分子工學]   
자료이용안내
국립중앙도서관(디지털열람실 예약 후 이용), 국립어린이청소년도서관, 국립세종도서관, 협약도서관(공공, 대학, 전문/특수, 해외, 작은도서관) 내에서 이용이 가능합니다.
※협약도서관 리스트 제공

목차

[목차]

목차
제3절 폴리피롤의 특허동향 = 63
1. 분석대상 범위 = 63
2. 전세계 특허동향 = 63
2.1 전세계 주요국 특허 출원(등록) 동향 = 63
2.2 연도별 출원(등록)동향 = 65
2.3 포트폴리오로 본 현재 기술 발전위치 = 66
2.4 국가별 특허 활동 지수 = 68
3. 한국의 특허동향 = 69
3.1 국가별 특허 동향 = 69
3.1.1 내ㆍ외국인 출원 동향 = 69
3.1.2 출원인 국적별 출원 동향 = 70
3.2 기술별 특허 동향 = 72
3.2.1 기술 분야별 점유율 = 72
3.2.2 기술별 출원인 국적별 동향 = 73
3.2.3 기술분야 출원인별 특허동향 = 75
3.3 출원인별 특허 동향 = 77
3.3.1 주요 출원인 특허 동향 = 77
3.3.2 주요 출원인의 기술별 특허 동향 = 78
4. 미국의 특허동향 = 79
4.1 국가별 특허 동향 = 79
4.1.1 내ㆍ외국인 출원 동향 = 79
4.1.2 출원인 국적별 출원동향 = 80
4.2 기술별 특허동향 = 82
4.2.1 기술 분야별 점유율 = 82
4.2.2 기술별 출원인 국적별 동향 = 83
4.2.3 기술분야 출원인별 특허동향 = 85
4.3 출원인별 특허 동향 = 87
4.3.1 주요 출원인 특허 동향 = 87
4.3.2 주요 출원인의 기술별 특허 동향 = 88
5. 일본특허 = 89
5.1 국가별 특허 동향 = 89
5.1.1 내ㆍ외국인 출원 동향 = 89
5.1.2 출원인 국적별 출원 동향 = 90
5.2 기술별 특허 동향 = 92
5.2.1 기술 분야별 점유율 = 92
5.2.2 기술별 출원인 국적별 동향 = 93
5.2.3 기술분야 출원인별 특허동향 = 95
5.3 출원인별 특허 동향 = 97
5.3.1 주요 출원인 특허 동향 = 97
5.3.2 주요 출원인의 기술별 특허 동향 = 98
제4절 폴리아세틸렌의 특허동향 = 99
1. 분석대상 범위 = 99
2. 전 세계 특허동향 = 100
2.1 전 세계 주요국 특허 출원(등록) 동향 = 100
2.2 년도별 출원(등록)동향 = 101
2.3 포트폴리오로 본 현재 기술 발전위치 = 102
2.4 국가별 특허 활동 지수 = 104
3. 한국의 특허 동향 = 105
3.1 국가별 특허동향 = 105
3.1.1 내ㆍ외국인 출원 동향 = 105
3.1.2 출원인 국적별 출원 동향 = 106
3.2 기술별 특허 동향 = 107
3.2.1 기술 분야별 점유율 = 107
3.2.2 기술별 출원인 국적별 동향 = 108
3.3 출원인별 특허 동향 = 110
3.3.1 주요 출원인 특허 동향 = 110
3.3.2 주요 출원인의 기술별 특허 동향 = 111
4. 미국의 특허동향 = 112
4.1 국가별 특허 동향 = 112
4.1.1 내ㆍ외국인 출원 동향 = 112
4.1.2 출원인 국적별 출원동향 = 113
4.2 기술별 특허동향 = 114
4.2.1 기술 분야별 점유율 = 114
4.2.2 기술별 출원인 국적별 동향 = 115
4.3 출원인별 특허 동향 = 117
4.3.1 주요 출원인 특허 동향 = 117
4.3.2 주요 특허권자의 기술별 특허 동향 = 118
5. 일본특허 = 119
5.1 국가별 특허 동향 = 119
5.1.1 내ㆍ외국인 출원 동향 = 119
5.1.2 출원인 국적별 출원 동향 = 120
5.2 기술별 특허 동향 = 121
5.2.1 기술 분야별 점유율 = 121
5.2.2 기술별 출원인 국적별 동향 = 122
5.3 출원인별 특허 동향 = 124
5.3.1 주요 출원인 특허 동향 = 124
5.3.2 주요 출원인의 기술별 특허 동향 = 125
제5절 폴리티오펜의 특허동향 = 126
1. 분석대상 범위 = 126
2. 전세계 특허동향 = 126
2.1. 전세계 주요국 출원(등록) 동향 = 126
2.2 연도별 출원(등록)동향 = 128
2.3 포트폴리오로 본 현재 기술 발전위치 = 129
2.4 국가별 특허 활동 지수 = 131
3. 한국의 특허동향 = 132
3.1 국가별 특허 동향 = 132
3.1.1 내ㆍ외국인 출원 동향 = 132
3.1.2 출원인 국적별 출원 동향 = 133
3.2 기술별 특허 동향 = 135
3.2.1 기술 분야별 점유율 = 135
3.2.2 기술별 출원인 국적별 동향 = 136
3.2.3 기술별 다 출원인 특허 동향 = 138
3.3 출원인별 특허 동향 = 140
3.3.1 출원인별 특허 동향 = 140
3.3.2 주요 출원인의 기술별 특허 동향 = 141
4. 미국의 특허동향 = 143
4.1 국가별 특허 동향 = 143
4.1.1 내ㆍ외국인 특허 동향 = 143
4.1.2 출원(등록)인 국적별 출원(등록) 동향 = 144
4.2 기술별 특허 동향 = 146
4.2.1 기술 분야별 점유율 = 146
4.2.2 기술별 출원(등록) 국적별 동향 = 147
4.2.3 기술별 다 특허권자 특허 동향 = 149
4.3 특허권자별 특허 동향 = 151
4.3.1 주요 특허권자 특허 동향 = 151
4.3.2 주요 특허권자의 기술별 특허 동향 = 152
5. 일본의 특허동향 = 155
5.1 국가별 특허 동향 = 155
5.1.1 내ㆍ외국인 등록 동향 = 155
5.1.2 출원인 국적별 출원 동향 = 156
5.2 기술별 특허 동향 = 158
5.2.1 기술 분야별 점유율 = 158
5.2.2 기술별 출원인 국적별 동향 = 159
5.2.3 기술별 다 출원인 특허 동향 = 161
5.3 출원인별 특허동향 = 163
5.3.1 주요 출원인 특허 동향 = 163
5.3.2 주요 출원인의 기술별 특허 동향 = 164
제4장 결론
결어 = 167
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